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immertion =========================== ・ 液 ： [えき] 1. (n,n-suf) liquid 2. fluid
液浸（えきしん）とは、光学系において液体を使用することによって高性能化を図る手段のことである。液体として油を用いる場合には油浸とよばれる。 ステッパーを用いたフォトリソグラフィによる半導体で製造で微細化を図る手段、光学顕微鏡で分解能を上げる手段などに用いられる。 == 半導体製造における適用 == 半導体回路の製造においては、ステッパーの投影レンズを用いてウェハーに塗布されたフォトレジストの感光による回路パターン転写が行われる。 一般論として半導体は構成回路が微細である方が高速動作・省電力性・低発熱性などに有利とされる〔これは一般論である。極端に微細化すると、回路からのリーク電流などが問題となるとされる。〕。そのため半導体の集積回路は開発以来、微細化の開発競争が続けられてきた（ムーアの法則を参照）。 2007年時点で最先端の半導体の製造プロセスは50nmオーダーを切っており、短波長紫外線レーザー（ArFエキシマレーザー）露光技術・超解像などの技術が投入されているが、投影レンズとウェハーの間に存在している空気によって微細化は制限を受けていた。 ここで、ウェハと投影レンズの間を液体で満たし、より微細な露光を行う技術が開発された。同様の技術は光学顕微鏡の高倍率観察に古くから用いられていたが、半導体製造における適用は技術的な問題が解決されたことによる。 2007年現在のところ液浸には超純水（屈折率1.33）を用いた実用化が進んでいるが、さらに高屈折率の液体の使用も検討されている。 半導体の露光を液浸で行うにあたり、次のような問題があったとされる。 *液の温度変化（によって起こる微細気泡の発生、屈折率の変化やひずみ）による露光への悪影響 *液の純度保持・補給と回収 *投影レンズと接する部分のみを液浸とする場合の液の追随性（エアカーテンを用いる対策などがある） *ウェハからの液への成分の溶け出しによる悪影響 *液によるウェハへの影響・ウェハの超撥水コーティングの開発 これらの問題の解決については一応の目処がつき、実用化された〔〕。 抄文引用元・出典: フリー百科事典『 ウィキペディア（Wikipedia）』 ■ウィキペディアで「液浸」の詳細全文を読む
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