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東京応化工業株式会社（とうきょうおうかこうぎょう、''TOKYO OHKA KOGYO Co., Ltd.''）は、半導体・プリント基板製造に用いるフォトレジスト（感光性樹脂）等の製造を行う日本の化学会社である。 ==沿革== *1936年4月 創業者 向井繁正が東京市品川区に、東京応化研究所を設立。 *1940年10月 東京応化工業株式会社に改組 *1962年10月 プリント基板用フォトレジスト（TPRシリーズ）生産開始 *1967年1月 神奈川県高座郡寒川町に相模工場（現・相模事業所）を開設 *1968年3月 半導体用ネガ型フォトレジスト（OMRシリーズ）生産開始 *1972年12月 国産初の半導体用ポジ型フォトレジスト（OFPRシリーズ）を開発 *1986年7月 東証2部に上場 *1990年9月 東証1部に指定替え *1991年12月 LCDカラーフィルター製造用顔料分散型ネガ型フォトレジスト（CFPRシリーズ）を開発 *1995年10月 LCDカラーフィルターブラックマトリクス製造用顔料分散型ネガ型フォトレジスト（CFPR-BKシリーズ）を開発。 *2000年8月 本社を現在地（旧 川崎工場跡地）に移転 *2004年10月 長春応化（常熟）社を開設 *2006年2月 最先端半導体製造用材料研究開発棟が完成（相模事業所） *2007年4月 FPD材料用研究開発棟が完成（相模事業所） *2012年8月 TOK尖端材料株式会社を韓国サムスン物産株式会社と合弁で設立 抄文引用元・出典: フリー百科事典『 ウィキペディア（Wikipedia）』 ■ウィキペディアで「東京応化工業」の詳細全文を読む スポンサード リンク
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